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Main Title: Polarity control and doping in aluminum gallium nitride
Translated Title: Kontrolle der Polarität und Dotierung in Aluminium Gallium Nitrid
Author(s): Hoffmann, Marc Patrick
Advisor(s): Kneissl, Michael
Referee(s): Lehmann, Michael
Sitar, Zlatko
Kneissl, Michael
Granting Institution: Technische Universität Berlin, Fakultät II - Mathematik und Naturwissenschaften
Type: Doctoral Thesis
Language: English
Language Code: en
Abstract: AlGaN basierte Laterale Polare Strukturen (LPS) können mit Hilfe der metallorganischen Gasphasenepitaxie gewachsen werden, indem man die c-Achse periodisch invertiert. Derartige Strukturen haben das Potential, um für Frequenzverdopplung von kohärentem Licht in das ultraviolette (UV) Spektralgebiet verwendet zu werden. Weitere Anwendungen liegen im Bereich lateraler p/n-Übergänge. Bezüglich ihrer Herstellung gibt es derzeit noch zwei wesentliche Herausforderungen, die gelöst werden müssen, um das volle Potential des Materialsystems für optoelektronische Bauelemente im UV ausnutzen zu können: (1) In AlGaN kann eine hohe Konzentration von intrinsischen und extrinsischen Störstellen zu einer reduzierten Quanteneffizienz von optischen Bauelementen führen. Dies ist besonders bei höheren Dotierungen der Fall, da es dort zur Selbstko mpensation des Dotanden kommen kann. (2) Werden III- und N-polare Domänen nebeneinanderliegend in einer LPS gewachsen, so wird in der Regel ein Schichtdickenunterschied zwischen den Domänen beobachtet. In der vorliegenden Arbeit wurden beide genannten Herausforderungen detailliert bearbeitet und gelöst. Im Fall von mit Si oder Mg dotiertem AlGaN führen hohe Störstellen-konzentrationen wie Stickstoffvakanzen, H oder O zu hohen Widerständen und einer niedrigen Beweglichkeit der freien Ladungsträger. Diese hohen Konzentrationen werden dadurch erklärt, dass im Bereich hoher Dotierungen die Formierungsenergien dieser S törstellen verringert werden, was zu einem erhöhten Einbau von Kompensatoren führt. Bestrahlt man AlGaN Filme während des Wachstums mit UV-Licht (entsprechend einer Anregungsenergie größer als die Bandlücke), führt dies zu einem verringertem Einbau von Störstellen. So kann z.B. in GaN:Mg eine stark reduzierte blaue Lumineszenz (2.8 eV) gemessen werden, was auf einen verringerten Einbau von Stickstoffvakanzen schließen lässt und zu einem geringerem elektrischen Widerstand führt. Des Weiteren wird im Rahmen dieser Arbeit gezeigt, dass das hier vorgestellte Modell zur Kontrolle des Einbaus von Defekten sowohl für n- als auch p-leitende Halbleiter verwendet werden kann. Die zweite Herausforderung des Schichtdickenunterschiedes der N- und III-polaren Domänen in LPS (2) wird in dieser Arbeit durch einen Oberflächenmassentransport zwischen den polaren GaN Domänen erklärt. Abhängig von der Wachstumsbedingung führt dieser Massentransport zu einem bevorzugten Wachstum jeweils einer polaren Domäne. Folglich konnten aber auch Bedingungen gefunden werden, in denen die Wachstumsrate der Domänen identisch ist und hoch qualitative AlGaN LPS mit Mikrometer großen Domäne n gewachsen werden. Abschließend wurden die Erkenntnisse aus (1) und (2) kombiniert und verbesserte elektrische und optische Eigenschaften lateraler p/n Übergänge nachgewiesen, wenn diese mit UV-Licht während des Wachstums bestrahlt wurden. Beides, sowohl die Störstellenkontrolle mittels UV-Bestrahlung als auch die Kontrolle der N- und III-polaren Domänen in LPS, wurde nie zuvor demonstriert und eröffnen einzigartige neue Möglichkeiten.
AlGaN can be used for the fabrication of lateral polar structures (LPS) by a periodic inversion of the c-axis as achieved by a polarity control scheme during its growth by metal organic chemical vapor deposition (MOCVD). These structures can be used for second harmonic generation in the ultraviolet spectral region, as well as for lateral p/n-junctions. The two major challenges addressed in this work exist in the general implementation of the AlGaN technology and in the fabrication of AlGaN LPS, and both prevent the realization of AlGaN UV-emitters. These challenges are: (1) the presence of a high concentrations of native defects and extrinsic impurities in AlGaN that can reduce the efficiency of optoelectronic devices, especially in the case of high doping with Mg or Si, and (2) as typically observed, a growth rate difference that exists during the simultaneous growth of III- and N-polar domains adjacent to each other in a LPS. In this dissertation, solutions to these two challenges are based on two novel and original approaches involving (1) Fermi-level point defect control schemes, and (2) mass transport control between polar domains. In approach (1), the control of point defects and reduction of compensations, VN, H or O are identified as the cause of high resistivity and low mobility in AlGaN due to their low formation energies at high Mg or Si doping concentrations. To confirm and quantify the Fermi-level point defect control scheme, above bandgap illumination during the growth of GaN was demonstrated to control the incorporation of these defects. Significant reductions in the point defect were achieved as evidenced by changes in their corresponding luminescence, for example, the blue luminescence at 2.8 eV (VN-related). Additionally, reduced resistivity and atomic concentrations, such as an order of magnitude lower H concentration, were observed. These studies confirm that the point defect management scheme developed in this work can control compensation in n-type as well as in p-type semiconductors. In approach (2), mass transport control between polar domains, the surface mass transport between differently oriented domains was determined to be a function of the Ga supersaturation. Using Ga supersaturation as a control, a condition where identical growth rates for both polarities was obtained and high quality AlGaN LPS with domains in the micrometer scale could be fabricated. Furthermore, the first AlN LPS was grown and studied. Finally, the utility of these two new approaches was demonstrated by fabricating an AlGaN lateral p/n-junction that exhibited a marked decrease in compensation effects within each particular domain. Both point defect control via above bandgap illumination, as well as the control of the growth rate difference of LPS, will have considerable impact on the field of III-V-nitrides as these novel approaches will potentially facilitate a new class of devices in the future.
URI: urn:nbn:de:kobv:83-opus4-39690
http://depositonce.tu-berlin.de/handle/11303/4032
http://dx.doi.org/10.14279/depositonce-3735
Exam Date: 6-Oct-2013
Issue Date: 23-Jul-2013
Date Available: 23-Jul-2013
DDC Class: 500 Naturwissenschaften und Mathematik
Subject(s): Aluminium Gallium Nitrid
Metallorganische Gasphasenepitaxie
Störstellenkontrolle
Laterale Polare Strukturen
Mg dotiertes GaN
Aluminum Gallium Nitride
Lateral polar structures
Metal organic chemical vapor deposition
Mg doped GaN
Point defect control
Usage rights: Terms of German Copyright Law
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